产品特点
DMD数字掩模光刻机无需制造掩模，采用DMD数字掩模可实现高精度,高分辨率，高对比度，高均匀性的任意图案曝光，并实现对任意区域紫外偏振敏感材料的偏振控制。结合高精度电动位移台可提升图像质量,用于偏振敏感光学元器件的制作。
应用领域
本产品可广泛应用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件和偏振防伪图案等的制作。